第3134章全球SPIE微光刻會(huì)議

        就在幾天前的全球SPIE微光刻會(huì)議上，MIT做出研發(fā)報(bào)告157nm浸沒實(shí)驗(yàn)的結(jié)果。

        “在去離子水純化水狀態(tài)下的浸沒實(shí)驗(yàn)，157nmDUV依然有著在純氮環(huán)境下的諸多問題無法解決。然而對于193nm的曝光是足夠透明的，在193nm浸沒的情況下157nm問題常見的普遍困難都不存在，幾乎等同于現(xiàn)今處于干式介質(zhì)中193nm步進(jìn)式光刻機(jī)效果?！?br>
        MIT的這份報(bào)告，讓現(xiàn)場與會(huì)的全球微影領(lǐng)域的頂尖大拿們紛紛失望不已，也就是在這個(gè)報(bào)告出來了以后，這幾天世界微光刻領(lǐng)域?qū)]式光刻技術(shù)紛紛發(fā)表了類似于‘至少現(xiàn)今技術(shù)還不成熟’的觀點(diǎn)。

        這個(gè)觀點(diǎn)，有著這些微光刻領(lǐng)域?qū)＜覀兊恼鎸?shí)的想法，更有著Nikon和為了能繼續(xù)保持在這個(gè)領(lǐng)域的權(quán)威和壟斷，以及已經(jīng)砸進(jìn)去幾十億美元的游說和新聞引導(dǎo)。

        在這個(gè)會(huì)議上，林博士也參加了這場會(huì)議，會(huì)議的主持方要求他發(fā)言‘浸潤式微影技術(shù)’。

        “由于NA已經(jīng)大于0.9，并且隨著NA的進(jìn)一步增加而回報(bào)遞減，浸沒式光刻可能是額外節(jié)點(diǎn)的關(guān)鍵。浸沒式光刻的關(guān)鍵是具有在光學(xué)波長中具有足夠的透射性，并且對透鏡和抗蝕劑表面是惰性的。開始研究浸沒流體是相對便宜的。一旦確定了流體，就必須解決許多問題；即，抗蝕劑的脫氣，曝光或掃描過程中流體折射率的不均勻、流體的摩擦導(dǎo)致的掃描速度減慢，以及潮濕環(huán)境的混亂。——”

        這時(shí)候趙長安手里面拿的一份文件，就是在這次全球SPIE微光刻會(huì)議上，各個(gè)專家級(jí)權(quán)威的發(fā)言。

        其中他看了林博士的發(fā)言的時(shí)間最長，對于別的專家的發(fā)言，基本上都是快速的瀏覽。

        對于趙長安前一世這個(gè)會(huì)議上林博士的發(fā)言，趙長安沒有看到過，因?yàn)槟莻€(gè)時(shí)候他怎么可能對這種枯燥的技術(shù)發(fā)言感興趣。

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